839 最后的战役（二）（1 / 6）

第841章最后的战役（二）

沪市，张江技术园区。

中微半导体总部的四周，布置了密密麻麻的电网和监控器，安保力量更是配备齐全。

一座不起眼的工厂里，沙领导、郑韩等一众领导，在陆飞的带领下，来到车间外。

隔着玻璃窗，就能看到一个巨型公交车大小的光刻机，身穿防尘服的工作人员正在操控这样的庞然大物，一个工作台完成扫描曝光的同时，另一个工作台也进行对准、调焦、下片等行动。

“因为芯片制造的过程中，并不是一次曝光就可以完成，而是需要经历多次曝光。”

“在曝光完一个区域之后，放置硅晶圆的曝光台就必须快速进行移动，接着曝光下一個需要曝光的区域，想要在这么多次快速移动中实现纳米级别的对准，双工作台就必须做到精度高而且操作时间短，这项技术本来只有ASML有，但现在已经被我们突破了。”

陆飞滔滔不绝，如数家珍。

领导们一言不发，目不转睛地盯着运行中的光刻机，虽然不是第一次见到光刻机，但一想到这是第一台国产的DUV浸润式光刻机，都压不住激动的心情，尽可能地往前靠，想凑得更一些，看得更清楚一些。

“了不起啊，小陆，你们了不起啊。”

陆飞点了下头，“没错，7nm是目前市面上最先进的制程工艺，不过根据摩尔定律，再过个一两年，就可能突破到5nm。”

陆飞嘿然一笑，“反倒是28nm、14nm和7nm这三个节点的工艺才是市场主流，特别是我们国内绝大部份的芯片需求，所以有了国产的DUV浸润式光刻机，基本可以保证我们不会也不怕被卡脖子，也能保证支撑到我们研发出EUV光刻机的那一天。”

确实，28nm是集成电路产能中划分中低端跟中高端的分界线。

沙领导满意道：“我记得是7年前还是8年前，也是在这里，你让我看的是65nm干式光刻机，还向我保证绝对能搞出属于我们自己的国产的浸润式光刻机，我本来以为要花10年甚至更长的时间，没想到你给了我们一个大大的惊喜啊！这么快让你们搞出来了！”

“梁博士想到的方案，如果把光刻机极限使用，经过6个光罩，9次曝光，也可以实现5nm工艺。”陆飞直截了当地回答。

“有EUV光刻机固然是好，只要一次曝光，一个光罩就能实现7nm、5nm，但没有EUV光刻机也无妨，有这台DUV浸润式光刻机也可以做到。”

陆飞露出谦虚而内敛的笑容。

“肯定会，但好在情况并不糟糕。”

沙领导投去问询的目光。

顷刻间，一众领导的目光齐聚于他。

陆飞直说道：“AMSL、尼康的光刻机用的是蔡司的技术，但蔡司愿意卖给AMSL、尼康，但绝对不会出口给我们。”