第165章刻不容缓（1 / 5）

第一种是接近接触式光刻，这也是结构最简单的光刻机。

\t它的标题在于，历程纷乱，操作量大，而且可能对芯片造成污染。

\t第二种是直写光刻，需要小三激光束一点点在芯片上打印出来。

\t但是它有个致命的缺点，那就是太慢了，不适于工业化制造。

\t第三种光刻体式款式是光学投影式光刻。

\t到目前为止，它是精度与听从最好的光刻手段。

\t系统给王小三的也恰是第三种光学投影式光刻。

\t而现在，果家相关方面的光学设计难题还没有解决。

\t虽然系统已经给出懂得决计划，但是有关的数据还需要果内的可学及自行研究。

\t王小三看着计划书。

\t他向可研院的人要来了。

\t在纳米光刻技术上，他要可研院的人突破对于衍射极限的钻研，在精确成像方面也要进行挑战。

\t除此之外，系统冷却，振动以致精度的精度，还有高分辨率的光刻胶等等都是需要解决的问题。

\t可研部的人为了配合王小三，在各处抽调着人手，好容易才凑齐一支队伍送进建设好的实验室。

\t可研人员进入实验室，来不及做别的的事情，就立刻投入了各项的研究之中。

\t王小三总览全局，监督把控着实验的整体进程。

\t就在实验刚刚开始，研究已经遇到了难题。

\t面对euv的光源的采集数据，可研部的人算了三天三夜都没有算出一个一致的数据。

\t甚至于这个数据在个位数的时候，就已经初阶产生了分歧。

\t可研人员左算右算要末数据不一致，要末同等是谬误的数据。

\t他们算的头都快要秃了。

\t许多人已经三天三夜没有好好睡过一觉了。